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上海超泓HMDS真空镀膜机

价格：面议

最小采购量：不限
主营产品：主要经营智能恒温槽、摇床、马弗炉、培养箱、超声波细胞破碎/清洗、智能试验箱等实验室设备。
供应商：上海超泓仪器设备有限公司
所在地：中国
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上海超泓仪器设备有限公司

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注册资本：300万元
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公司地区：中国
主营产品：主要经营智能恒温槽、摇床、马弗炉、培养箱、超声波细胞破碎/清洗、智能试验箱等实验室设备。

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产品详情

品牌：其他
型号：HMDS
性能类型：真空烘箱
外形类型：立式烘箱
额定温度类型：常温烘箱100-250℃
额定温度数值：250℃
工作室尺寸：560*640*600mm
控温范围：室温+10℃-250℃℃

产品介绍： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。 产品特点： 1、机外壳采用不锈钢SUS304材质制造，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。 2、箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。 3、微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。 4、智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。 5、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封，确保HMDS气体无外漏顾虑。 6、整个系统采用材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。 产品参数：<table border="1" cellspacing="0" style="margin:0px 0px 0px 5.4pt;padding:0px;background-color:#FFFFFF;border:0px;color:#333333;font-family:微软雅黑, " font-size:14px;width:915px;"=""><tbody><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">型号</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">HMDS-20</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">HMDS-90</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">HMDS-210</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">容积</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">20L</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">90L</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">210L</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">电源电压</td><td colspan="2" valign="center" width="56.25%" style="border:1px double red;text-align:center;">AC220V±10%/50Hz±2%</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">AC380V±10%/50Hz±2%</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">输入功率</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">1500W</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">3000W</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">4000W</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">控温范围</td><td colspan="3" valign="center" width="84.375%" style="border:1px double red;text-align:center;">室温+10℃-250℃</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">温度分辨率</td><td colspan="3" valign="center" width="84.375%" style="border:1px double red;text-align:center;">0.1℃</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">温度波动度</td><td colspan="3" valign="center" width="84.375%" style="border:1px double red;text-align:center;">±0.5℃</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">达到真空度</td><td colspan="3" valign="center" width="84.375%" style="border:1px double red;text-align:center;">133Pa</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">工作室尺寸（mm）</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">300*300*275</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">450*450*450</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">560*640*600</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">外形尺寸（mm）</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">465*465*725</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">850*700*1400</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">720*820*1050</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">载物托架</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">1块</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">2快</td><td valign="center" width="28.125%" style="border:1px double red;text-align:center;">3块</td></tr><tr><td valign="center" width="15.625%" style="border:1px double red;text-align:center;">时间单位</td><td colspan="3" valign="center" width="84.375%" style="border:1px double red;text-align:center;">分钟</td></tr></tbody></table>选配件 真空泵：德国品牌，莱宝“DC”双极系列旋片式油泵，真空高，噪音低，运行稳定。 连接管：不锈钢波纹管，完全密封将真空泵与烘箱连接。HMDS预处理的必要性： 在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。真空镀膜机的原理： HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS，降低了HMDS处理后的硅片接触角，降低了光刻胶的用量，提高光刻胶与硅片的黏附性。真空镀膜机的一般工作流程： 先确定烘箱工作温度。典型的预处理程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空度后，开始充人氮气，充到达到某低真空度后，再次进行抽真空、充入氮气的过程，到达设定的充入氮气次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分。然后再次开始抽真空，充入HMDS气体，在到达设定时间后，停止充入HMDS药液，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当达到设定的保持时间后，再次开始抽真空。充入氮气，完成整个作业过程。HMDS与硅片反应机理如图：先加热到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS与表面的OH一反应，在硅片表而生成硅醚，消除氢键作，从而使极性表面变成非极性表面。整个反应持续到空间位阻(三甲基硅烷基较大)阻止其进一步反应。尾气排放等：多余的HMDS蒸汽（尾气）将由真空泵抽出，排放到专用废气收集管道。在无专用废气收集管道时需做专门处理。

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